GMP等級工藝設備 全套進口檢測設備
抗電暈型聚酰亞胺F46薄膜 抗電暈型聚酰亞胺薄膜
WXCPI-FCR
WXCPI-CR100
高性能聚酰亞胺薄膜 高導熱聚酰亞胺薄膜 抗電暈聚酰亞胺薄膜 特征聚酰亞胺薄膜 雙軸拉伸聚酰亞胺薄膜
WXCPI-091
WXCPI-073
WXCPI-052
公司擁有一流的研發團隊,持續在高性能聚酰亞胺材料、光致變色材料、氟材料等領域進行研究,同時公司與清華大學、中科院微電子所、中國計量大學等國內領先的研究機構進行研發合作。
絕緣材料與絕緣技術專業委員會主辦的第一屆全國變壓器高性能絕緣材料技術研討會于2019年9月24-26日在廣州召開,創彩光學為本次會議的協辦單位,屆時將與高性能絕緣材料領域權威專家及科研院校知名教授共同研討高性能絕緣材料技術。?
創彩光學雙向拉伸聚酰亞胺薄膜性能提升,在厚度公差小于0.35μm的基礎上,力學性能、絕緣性能進一步有所提高。
創彩光學成功購入70329.9平方米二期建設基地(無錫市濱湖區楊樹路與百合路交叉口),二期基地設計圖完美出爐,二期建設工程即將開始。
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